| 磁控溅射制备五氧化二钒薄膜及其透射率研究 |
| 王娇;张艺超;杨建红; |
| 关键词：Fe_(20)Ni_(80)薄膜;磁控溅射;各向异性磁电阻(AMR);软磁性薄膜;自旋整流器件 |
| 主要内容：采用磁控溅射的方法制备了高质量的铁镍合金(Fe_(20)Ni_(80))软磁性薄膜,探究了制备过程中溅射条件对Fe_(20)Ni_(80)薄膜质量的影响,包括溅射气压、溅射功率、退火温度和薄膜厚度等。这些条件或改变了溅射时的溅射速率,或改变了溅射出来的粒子的平均自由程,进而影响制备的Fe_(2 |
| 《微纳电子技术》 2016(6).364-368 |
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