| 二甲基二氯化锡前驱体CVD制备SnO_2∶F薄膜及其性能研究 |
| 陈峰;张振华;赵会峰;鲍思权;姜宏; |
| 关键词：二甲基二氯化锡;化学气相沉积法;SnO2∶F薄膜 |
| 主要内容：采用二甲基二氯化锡(DMTC)为新前驱体,通过常压CVD法在硼硅玻璃基板上制备SnO_2∶F透明导电薄膜,研究了DMTC、TFA和H_2O的含量对薄膜结构及光电性能的影响,研究表明当F/Sn物质的量比为1∶1、H2O/Sn物质的量比为3∶2时,制备出可见光透过率84.17%、方块电阻9.2Ω/□且结 |
| 《材料导报》 2016(24).6-10+15 |
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