| 反应磁控溅射制备TiAlVN薄膜及性能研究 |
| 李超;王健;强力;张俊彦;刘广桥; |
| 关键词：反应磁控溅射;TiAlVN薄膜;电化学腐蚀 |
| 主要内容：利用反应磁控溅射技术,通过调节N2流速在单晶硅(n-110)表面制备了不同N含量的氮化铝钛钒(TiAlVN)薄膜。利用扫描电子显微镜(SEM)、纳米压入、X射线光电子能谱(XPS)和Autolab type3型电化学工作站等方法,分别对薄膜断面形貌、力学性能、N元素成分含量及电化学腐蚀性能进行了测试 |
| 《甘肃科学学报》 2016(3).40-43+79 |
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