| 方波脉冲下纳米氧化铝掺杂对聚酰亚胺表面放电特性影响 |
| 刘洋;吴广宁;高国强;AKRAM SHAEEL;钟鑫;朱健; |
| 关键词：PI/Al2O3复合薄膜;电晕老化;傅里叶红外光谱分析;局部放电;扫描电镜分析;降解 |
| 主要内容：聚酰亚胺薄膜(polyimide,PI)以其卓越的介电性能广泛应用于变频电机匝间绝缘,纳米掺杂能改善PI膜的绝缘性能。为研究方波条件下纳米Al_2O_3对PI膜表面放电特性的影响,文中将粒径为60nm的Al_2O_3纳米粒子作为无机填料添加到PI基体中,制作了掺杂量为1%,2%,5%,7%,10%的 |
| 《中国电机工程学报》 2016(4).1141-1147 |
| 全文下载请进入http://hightech.stlib.cn/tpi_1/sysasp/include/index.asp |
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