| 氟化镁基底上HfO_2中间层对Al_2O_3薄膜微观组织和力学性能的影响（英文） |
| 宋博;赵丽丽;陈笑迎;游丽君;宋力昕; |
| 关键词：HfO_2中间层;Al_2O_3薄膜;微观组织;力学性能;氟化镁基底 |
| 主要内容：采用电子束蒸镀技术在氟化镁基底上制备了单层Al_2O_3薄膜和含有HfO_2中间层的HfO_2/Al_2O_3双层薄膜。在空气中对所制备的薄膜进行1 h 600℃的退火处理。通过掠入角X射线衍射仪(GIXRD)、场发射扫描电镜(FE-SEM)、傅里叶变换红外光谱仪(FTIR)、纳米压痕和划痕法对薄膜 |
| 《无机材料学报》 2016(7).779-784 |
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