| 化学气相沉积金刚石膜技术专利分析 |
| 谢文峰;刘佳佳;Hernondez Karla;涂溶;章嵩; |
| 关键词：化学气相沉积;二硫化钼薄膜;工程应用 |
| 主要内容：总结了二硫化钼薄膜的特性及其在力学、光电、润滑和催化性能方面的广泛应用。归纳了目前化学气相沉积(CVD)技术制备二硫化钼薄膜的主要方法,包括钼(或钼化合物)的硫化,钼前驱体与硫前驱体的直接反应和硫化物的热分解。讨论了化学气相沉积制备二硫化钼薄膜工艺中成核剂、基板和 |
| 《武汉理工大学学报》 2016(4).31-37 |
| 全文下载请进入http://hightech.stlib.cn/tpi_1/sysasp/include/index.asp |
微信公众号