| 基片的运动方式对磁控溅射矩形靶镀膜均匀性的影响 |
| 安红娜;陈连平;韩文静; |
| 关键词：电化学技术;BaMoO_4薄膜;有利生长基元;成核速率 |
| 主要内容：在金属片Mo上用恒电流电化学技术制备了从薄膜开始成核到生长结束不同时间的BaMoO_4晶态薄膜,并利用SEM、XRD等相关测试手段,对这些薄膜进行测试分析,结果发现,在相同的制备条件下,在薄膜生长的开始阶段,由于基底不平整(折叠、划痕、缺陷、凹凸不平)的位置电流密度要比平整处大 |
| 《河南科技》 2016(5).136-137 |
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