| 基片温度对磁控溅射HfO_2薄膜结构和性能影响分析 |
| 张向秀;张鹏飞;赵瑾珠;郭攀;杜晓松; |
| 关键词：磁控溅射;膜厚均匀性;膜厚分布;基片运动方式 |
| 主要内容：本文从理论上分析了磁控溅射镀膜中基片的运动方式对沉积薄膜厚度均匀性的影响。在考虑了溅射环内不同位置刻蚀权重的情况下,对静止、直线往复运动(以下简称平动)、平动结合转动、平动结合转动并在折返处停留自旋四种运动方式,根据余弦定律对矩形靶在圆形基片上溅射的膜厚分布? |
| 《真空》 2016(4).42740 |
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