基于AZO_VO_2_AZO结构的电压诱导相变红外光调制器
 
惠迎雪;刘政;王钊;刘卫国;徐均琪;

关键词:HfO2薄膜;磁控溅射;晶体结构;组分;纳米力学性能
 
主要内容:在纯氧条件下,采用直流磁控溅射技术在单晶硅基片上沉积氧化铪(HfO_2)薄膜,并研究了沉积过程中基片温度对薄膜结构和性能的影响规律。利用X射线衍射仪(XRD)和X射线能谱(XPS)表征了薄膜的晶体结构和组分,利用原子力显微镜(AFM)观察薄膜表面形貌,利用纳米力学测试系统表征了薄膜?
 
《应用光学》  2016(6).872-879
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