| 基于CVD方法生长在硅基底上立方碳化硅的拉曼散射研究（英文） |
| 薛莹洁;陈海峰; |
| 关键词：双环磁控溅射靶;Comsol模拟;水平磁感应强度;结构参数 |
| 主要内容：影响靶材刻蚀特性的主要因素来自平行靶面的磁场分布,为了得到更优的磁控靶结构参数以实现靶面水平磁感应强度的均匀分布,本文利用Comsol软件对双环磁控溅射靶的靶面水平磁感应强度分布进行模拟分析,得出了当内磁环高度h=10 mm,外磁环与靶材间距d=7 mm时的靶面水平磁感应强度分 |
| 《人工晶体学报》 2016(6).1696-1702 |
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