| 基于田口法的在玻璃基板上溅射ITO薄膜制作工艺研究 |
| 艾春鹏;赵晓锋;白忆楠;冯清茂;温殿忠; |
| 关键词：ZnO薄膜;射频磁控溅射;微结构;阻变特性 |
| 主要内容：研究射频磁控溅射法制备ZnO薄膜,采用X射线衍射仪(XRD)和场发射扫描电子显微镜(SEM)研究溅射功率、溅射时间和退火温度对薄膜微结构特性的影响,并分析ZnO薄膜阻变特性。实验结果表明,沉积态薄膜择优取向为〈002〉晶向,随溅射功率和退火温度增加,择优取向显著增强,溅射功率120 W |
| 《功能材料》 2016(S2).81-84 |
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