| 基于先进等离子体的低温钝化氮化硅薄膜的研究 |
| 梅明亮;王翠凤;张鹃如; |
| 关键词：氧化铟锡(ITO);田口法;溅射 |
| 主要内容：利用射频磁控溅射方式将氧化铟锡(ITO)沉积在玻璃基板上,设定温度、压力、溅射功率为主要参数,每个参数均有3个水平,运用田口实验方法设计L9直交表,质量目标设定为方阻,以变异数分析得到的结果作为最优工艺参数条件,并测量膜厚、透光率。以X光衍射仪分析结晶状况、SEM观察结构W |
| 《长春工程学院学报(自然科学版)》 2016(4).25-28 |
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