| 溅射时间对GZO薄膜光电性能的影响 |
| 宋斌斌;于涛;张传升;李博研;李新连;郭凯;左宁;赵树利;陈 |
| 关键词：磁控溅射;CIGS;Mo背电极;溅射气压;形貌结构 |
| 主要内容：采用直流磁控溅射法在溅射气压为0.1~1.0Pa下制备了金属Mo膜。用扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)对单层Mo膜的表面、断面形貌和粗糙度进行了分析与表征;用X射线衍射(XRD)研究了气压对Mo膜晶粒尺寸和薄膜应力应变的影响;用SEM观察了双层和三层Mo背电极层的表面形貌。结? |
| 《材料导报》 2016(16).35-38+59 |
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