| 金属电阻率Cu_Cu_2O半导体弥散复合薄膜的制备及其偏压效应 |
| 罗廷礼; |
| 关键词：化学气相沉积;金刚石膜;性状指标;成膜因素 |
| 主要内容：为了表征金刚石膜性能的稳定性,本文给出了六十项性状指标和百项相关成膜因素、因果值A、制膜效果作为比较平台。发现沉积腔中气流有喘息、电弧转速有进动。磨耗比E值随测量过程而变。影响膜质的温度有22种。该平台为比较金刚石膜的稳定性找到了依据,不仅方便了技术交流、推动? |
| 《河北省科学院学报》 2016(3).42995 |
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