| 晶粒尺寸和膜厚对磁控溅射法制备Bi_(1.5)Mg_(1.0)Nb_(1.5)O_7薄膜介电性能的影响（英文） |
| 晏子敬;吕忆农;刘云飞;高虹;马成建;蒋晓威; |
| 关键词：铌镁酸铋薄膜;磁控溅射;晶粒尺寸;膜厚;介电性能;调谐率 |
| 主要内容：采用磁控溅射法在Pt/Ti/Si O2/Si基底上制备立方焦绿石结构Bi1.5Mg1.0Nb1.5O7薄膜。通过控制750℃下后退火时间来控制薄膜的平均晶粒尺寸,用沉积时间控制膜厚。研究不同晶粒尺寸和膜厚对BMN薄膜相结构、微观形貌和介电性能的影响。结果表明,当BMN薄膜平均晶粒尺寸为45 nm、膜 |
| 《硅酸盐学报》 2016(9).1287-1292 |
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