| 利用单一连续炉的石墨膜制造方法 |
| 关键词：高分子膜;温度区间;制造方法;碳质;京畿道; |
| 主要内容：该发明涉及利用单一连续炉的石墨膜制造方法,包括:碳化步骤,把高分子膜引入具有第1温度区间的第1加热器内而碳化所述高分子膜并变换成碳质膜;及石墨步骤,把所述碳质膜引入具有第2温度区间的第2加热器内而使其变换成石墨膜,所述第2温度区间为温度以线型上升的区间。 |
| 《科技创新导报》 2016(5).183 |
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