| 热丝CVD金刚石涂层温度场补偿优化研究 |
| 简小刚;雷强;张奎林; |
| 关键词：金刚石薄膜;温度场优化;热反射 |
| 主要内容：采用热丝化学气相沉积法(chemical vapor deposition,CVD)制备金刚石薄膜时,对反应室温度场尤其是衬底温度的精确控制是沉积高质量CVD金刚石膜的主要难点之一。在现有HF–650热丝CVD设备的基础上进行优化研究,基于热反射原理,采用Fluent软件进行模拟仿真计算,据此提出了 |
| 《金刚石与磨料磨具工程》 2016(6).15-19+24 |
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