| 射频磁控溅射法制备SnS_2薄膜结构和光学特性的研究 |
| 冯志鹏;魏峰;赵鸿滨;杨志民; |
| 关键词：WO3薄膜;射频磁控溅射;电致变色;循环伏安;工作压强 |
| 主要内容：采用射频磁控溅射技术在透明导电氧化铟锡(ITO)玻璃上沉积了不同工作压强和不同氧分压(氧氩比)条件下的WO_3薄膜并研究了其电致变色特性。采用X射线衍射分析(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)分析了所制备薄膜的成分结构和表面形貌,采用电化学测试工作站和紫外可见双束分光光度计对薄 |
| 《稀有金属》 2016(9).902-907 |
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