| 射频磁控溅射法制备SnS薄膜及其结构和光学特性 |
| 李学留;刘丹丹;梁齐;史成武;于永强; |
| 关键词：SnS2薄膜;射频磁控溅射;光学特性;异质结器件 |
| 主要内容：采用射频磁控溅射法溅射SnS_2靶,在玻璃基片上以不同射频功率和氩气压强制备一系列薄膜样品,研究了不同工艺条件对薄膜特性的影响。利用X射线衍射(XRD)和拉曼光谱(Raman)对薄膜样品的晶体结构和物相进行表征分析。利用X射线能量色散谱(EDS)、紫外-可见-近红外分光光度计(UV-Vis |
| 《发光学报》 2016(12).1521-1531 |
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