| 射频磁控溅射法制备SnS薄膜及其结构和光学特性 |
| 刘丹丹;李学留;李琳;史成武;梁齐; |
| 关键词：SnS薄膜;射频磁控溅射;快速退火;晶体结构;光学特性 |
| 主要内容：利用射频磁控溅射法在玻璃衬底上沉积SnS薄膜并对其进行快速退火处理,利用X射线衍射(XRD)、拉曼光谱(Raman)、X射线能量色散谱(EDS)、原子力显微镜(AFM)和紫外-可见-近红外(UV-Vis-NIR)分光光度计研究了不同溅射功率(60~120 W)条件下制备的SnS薄膜的晶体结构、物相组 |
| 《发光学报》 2016(9).1114-1123 |
| 全文下载请进入http://hightech.stlib.cn/tpi_1/sysasp/include/index.asp |
微信公众号