| 射频反应磁控溅射制备AlN多晶薄膜及其择优取向研究 |
| 程春玉;蔺增;王妨;李慕勤; |
| 关键词：掺氮TiO2薄膜;磁控溅射;退火;亲水性 |
| 主要内容：采用磁控溅射方法制备掺氮TiO_x薄膜。将TiO_x作为靶材,通以N_2/Ar混合气体来精确控制N的掺杂量。为改善掺氮TiO_x薄膜的性能,首先将试样放于退火炉中退火,退火温度范围为300~600℃;再将试样放于黑暗处一段时间;最后用可见光(VIS)照射。采用扫描电子显微镜(SEM)观察薄膜的表面? |
| 《稀有金属材料与工程》 2016(9).2232-2236 |
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