| 射频功率对富硅-氮化硅薄膜结构及性质影响 |
| 谭伟;徐军;王行行;陆文琪; |
| 关键词：AlN;薄膜;择优取向;红外吸收光谱;RF;反应磁控溅射 |
| 主要内容：采用RF反应磁控溅射在Si(111)基片上制备了多晶AlN薄膜,研究了工作气压对AlN薄膜晶面择优取向的影响。利用台阶仪、X射线衍射(XRD)、红外吸收光谱(FTIR)对AlN薄膜的沉积速率、晶体结构、化学结构及成分进行了表征。结果表明:工作气压对AlN薄膜晶面择优取向具有十分显著的影响,? |
| 《真空科学与技术学报》 2016(10).1092-1098 |
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