水解-刻蚀法制备CuMnO_2纳米片阵列薄膜及其催化性能
 
陈峰;张振华;赵会峰;赖新宇;姜宏;

关键词:水含量;常压化学气相沉积;雾度;氟掺杂氧化锡薄膜
 
主要内容:为制备高雾度、高透过和高导电透明导电薄膜玻璃,采用常压CVD法在硼硅玻璃基板上分别以单丁基三氯化锡(MBTC)为前驱物、三氟乙酸(TFA)为掺杂剂、去离子水为催化剂,制备了Sn O_2:F透明导电薄膜。研究了不同水用量对薄膜雾度的影响,并分析影响雾度变化的机理。结果表明:通过调节?
 
《硅酸盐学报》  2016(4).561-565
全文下载请进入http://hightech.stlib.cn/tpi_1/sysasp/include/index.asp
仿站