| 调制溅射气压对ZnO∶Ga薄膜结构与光电性能的影响 |
| 帅伟强;胡跃辉;张效华;胡克艳;陈义川; |
| 关键词：磁控溅射;ZnO∶Ga薄膜;调制;溅射气压 |
| 主要内容：利用射频磁控溅射法分阶段调制溅射气压在石英衬底上沉淀ZnO∶Ga薄膜。实验分为四组,分别是0.7 Pa/1Pa,1 Pa/1 Pa,1.5 Pa/1 Pa,2 Pa/1 Pa。对样品的晶体微结构,电学性质和光学性质进行了分析。经过表征发现:不同溅射气压状态下ZnO∶Ga薄膜都具有(002)方向的择优 |
| 《中国陶瓷》 2016(10).22-25 |
| 全文下载请进入http://hightech.stlib.cn/tpi_1/sysasp/include/index.asp |
微信公众号