| 微孔金属薄膜结构变化及阻尼性能研究 |
| 刘爽;郭丽娜;谢翼骏;张尚剑;刘永; |
| 关键词：CsI(Tl)闪烁薄膜;晶面间距;微晶柱;SEM;XRD |
| 主要内容：掺铊碘化铯(CsI(Tl))闪烁薄膜因其具有连续致密的微晶柱结构而被广泛应用。该文采用真空热蒸镀方法在单晶硅(Si)衬底和多晶铂硅(Pt/Si)衬底上制备不同厚度的CsI(Tl)薄膜,研究不同衬底上薄膜厚度增加过程中微晶柱结构中出现的裂纹形貌。不同厚度的CsI(Tl)薄膜制备工艺条件相同。 |
| 《电子科技大学学报》 2016(4).684-688 |
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