| 物理气相沉积法制备TiN薄膜的性能及应用研究 |
| 王尧; |
| 关键词：TiN薄膜;物理气相沉积法;工艺参数;性能 |
| 主要内容：本文主要介绍了物理气相沉积法(磁控溅射法和多弧离子镀法)制备Ti N薄膜的工艺,分析了不同工艺参数对性能的影响,列举了在切削工具、机械加工、航空、医学以及微电子领域的应用,最后对Ti N薄膜的发展趋势进行了展望。 |
| 《世界有色金属》 2016(9).114+116 |
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