| 氧分压对NiO_x薄膜微结构和电阻开关特性的影响 |
| 方明;桑立军;杨丽珍;陈强; |
| 关键词：氧等离子体;氧化铝;原子层沉积;OES |
| 主要内容：本文研究氧等离子体辅助原子层沉积氧化铝中各个沉积参数对薄膜性能和结构的影响。在氧等离子体辅助原子层沉积氧化铝的过程中,通过改变基底温度、等离子体放电时间、等离子体放电功率、单体三甲基铝冲洗时间和反应气体氧气冲洗时间,研究了工艺参数对于氧化铝的生长的影响。通? |
| 《真空》 2016(2).42990 |
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