| 原子层沉积制备纳米TiO_2薄膜研究进展 |
| 佘秋明;曹良良;陈燕;宋新山;王宇晖;宋志棠;吴良才; |
| 关键词：原子层沉积;低温;TiO2薄膜;退火;带隙 |
| 主要内容：利用原子层沉积(ALD)法分别在Si和石英衬底上制备了Ti O_2薄膜,并在N2氛围下对Ti O_2薄膜样品进行退火处理。采用X射线衍射、原子力显微镜和场发扫描电子显微镜对不同退火温度下样品晶体结构、表面形貌进行了分析。利用紫外-可见分光光度计对不同退火温度下的Ti O_2薄膜进行了I |
| 《真空科学与技术学报》 2016(5).510-514 |
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