| 原子层沉积制备纳米TiO_2薄膜研究进展 |
| 张王乐;冯昊; |
| 关键词：原子层沉积(ALD);TiO2薄膜;掺杂 |
| 主要内容：原子层沉积技术(ALD)可制备出平滑、均匀可控的高质量薄膜,较传统制备方法而言,具有高度可控性和重现性,成为纳米二氧化钛(TiO_2)薄膜制备的首要选择。从沉积温度、等离子体的增强作用、沉积载体、掺杂及应用等方面综述了ALD法制备纳米TiO_2薄膜的相关研究进展。 |
| 《化工新型材料》 2016(9).28-29+32 |
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