| 直流磁控溅射工艺对ITO薄膜光电性能的影响 |
| 孟政;刘静;汪洪; |
| 关键词：薄膜厚度;台阶高度;直方图;触针式轮廓仪 |
| 主要内容：薄膜厚度是薄膜测试领域中非常重要的参数。利用直方图法处理触针式轮廓仪测试数据(标准样品、制备样品)得到台阶高度,是获取薄膜厚度的方法之一。通过对样品的台阶高度、椭偏测试计算结果的对比分析,发现直方图法能够有效避免人为因素的影响,适用于10nm以上的薄膜厚度的测量,? |
| 《真空》 2016(6).43-46 |
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