| 直流反应磁控溅射沉积a-C_H薄膜的微结构和摩擦磨损行为 |
| 彭寿;蒋继文;李刚;张宽翔;杨勇;姚婷婷;金克武;曹欣;徐根 |
| 关键词：直流磁控溅射;氧化铟锡薄膜;衬底温度;溅射功率 |
| 主要内容：采用直流磁控溅射系统在玻璃衬底上制备了氧化铟锡(ITO)薄膜。通过X射线衍射仪、扫描电子显微镜、分光光度计、Hall效应测试系统研究了热退火与原位生长、衬底温度、直流溅射功率对薄膜结构、表面形貌以及光电性能的影响。结果表明:与室温生长并经410℃热退火后的薄膜相比,410? |
| 《硅酸盐学报》 2016(7).987-994 |
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