| 含活性基团硅氮烷先驱体的裂解 |
| 胡海峰,陈朝辉,冯春祥,张长瑞,宋永才 |
| 关键词：硅氮烷;裂解;N2气氛;NH3气氛 |
| 主要内容：用TG-GC,IR，元素分析，XRD研究MeSiHCl2与MeSiVi（Vi:-CH=CH2）Cl2共氨解产物的裂解过程．400～800℃在N2中完成裂解，硅氢化反应形成桥键[Si-CH2-CH2-Si，Si-CH（CH3）-Si]和自由基 |
| 《材料研究学报》 1998(1).64-68 |
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