聚酰亚胺LB膜MIS结构C-V特性
 
林海安,吴冲若

关键词:LB聚酰亚胺膜;MIS隧道结;双电容峰;少子注入;类金属-半导体结
 
主要内容:本文报道了Al/LB聚酰亚胺膜/P-Si(100)MIS结构的C一V特性研究结果.67层LB膜样品C-V特性近乎理想,具有负的固定电荷密度约1011cm-2量级,平带时滞后小于0.3V对于MIS隧道结,除了在-0.5—-1.5V间具有反型层
 
《材料研究学报》  1994(1).88-92
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