| JSR 与Lam Research 合作推动半导体制造技术发展 |
| 刘蓉、刘少芳 编译 发布日期：2025年9月16日 |
| 新材料 |
| 2025年9月16日，日本JSR 株式会社携旗下金属氧化物光刻胶企业Inpria，与全球半导体设备巨头Lam Research 达成非排他性交叉许可和合作协议，三方将联合推动半导体制造行业向下一代图案化技术过渡。此次合作聚焦极紫外（EUV）光刻干式光刻胶，以及原子层刻蚀（ALE）、原子层沉积（ALD）等工艺的下一代材料开发。根据协议，JSR/Inpria 将开放其金属氧化物光刻胶等创新半导体材料技术，Lam Research 则提供包括Aether?干式光刻胶设备在内的沉积/刻蚀工艺平台，以降低制造人工智能（AI）和高性能计算（HPC）芯片所需复杂图形的成本与难度。三方将联合研发，共同推进JSR/Inpria的图形化光刻胶及薄膜材料与Lam 的刻蚀和干式光刻胶沉积技术的集成。 |
| 《全球创新型企业动态监测快报》2025年05期 |
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