| 三菱化学扩大半导体用合成二氧化硅粉产能 |
| 刘少芳 编译 发布日期：2024年12月19日 |
| 新材料 |
| 三菱化学株式会社决定在其九州福冈工厂（福冈县北九州市）扩大“三菱合成二氧化硅”的产能，这是一种用于半导体制造工艺的合成二氧化硅粉末。计划于2028年9月正式投入运营。 该产品具有超高纯度，主要用作半导体硅生产用石英坩埚的原料，以及半导体制造设备中的高纯度石英部件原材料。在半导体硅制造过程中，石英坩埚的表面必须保持极高纯度，以防止杂质混入导致晶圆质量显著下降。凭借多年积累的制造技术，该产品实现了全球最高水平的砂型二氧化硅纯度，在此应用中具有极强的竞争力。此次扩大产能的决定是为了满足半导体市场持续增长的需求。 |
| 《全球创新型企业动态监测快报》2025年01期 |
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