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| ASML 新一代High-NA EUV 光刻机实现量产 |
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| 粤科图信息专班 编译 发布日期：2026-03-02 |
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| 集成电路 |
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| 近日，全球半导体设备巨头ASML 宣布新一代High-NA EUV 光刻机已具备量产能力。该设备型号为EXE:5200B，已累计处理超50 万片硅片，稼动率达80%。其数值孔径从0.33 提升至0.55，显著提高成像精度，减少多重曝光步骤，提升生产良率与成本效益。ASML 计划于2026 年底将稼动率提升至90%。此技术突破为2 纳米及以下芯片制造提供关键支撑。 |
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| 《全球创新型企业动态监测快报》2026年01期 |
