用于足细胞离体培养的系统和方法及其用途
 
WOUS22048497  2022-10-31  发明申请

2023-5-4
 
  在本公开的各个方面中,提供了用于生长或培养足细胞的系统和方法及其用途。 在一个方面,公开了一种包括ECM图案化基底的足细胞培养系统。 ECM图案化衬底包括顺应性衬底。 顺应性基材包括范围从约0.1kPa至约10kPa的预定刚度。 ECM图案化衬底进一步包括沉积在顺应性衬底的暴露表面上方的多个图案化元件。
 
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