| 一种口腔牙周局部药物缓释高分子膜材料、制备方法及应用 |
| CN202311724500.5 2023-12-15 发明申请 |
| 2024-4-2 |
| 本发明公开了一种口腔牙周局部药物缓释高分子膜材料，该高分子膜材料通过中空介孔硅负载二甲双胍，得到载药中空介孔硅，再与聚乳酸?羟基乙酸共聚物复合制备得到。本发明还公开了上述高分子膜材料的制备方法，包括以下步骤：S1、中空介孔硅的制备；S2、载药中空介孔硅的制备；S3、高分子膜材料的制备。本发明公开的口腔牙周局部药物缓释高分子膜材料可改善PLGA电纺膜疏水性、持续缓释二甲双胍，同时具有良好的体外生物相容性，有望将来作为局部缓释生物材料个性化治疗患有糖尿病的牙周炎患者。 |
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