| 使用电子显微镜图案尺寸测量方法，图案尺寸测量系统，和电子显微镜设备中用于监控的方法改变在时间 |
| WOJP11002807 2011-5-20 发明申请 |
| 2012-2-2 |
| 预先，所述每个临界尺寸被测量的SEM装置的特征参数，所述的横截面形状的一个对象，以进行尺寸测量是通过一基于模型库(mbl)估计匹配系统，尺寸测量是通过产生信号波形进行通过SEM仿真作为输入用于所估计的横截面形状和所述装置特征参数，和所述差在所述尺寸测量结果被记录作为机的差异。在实际测量值，从所述尺寸的测量结果用于每个临界尺寸扫描电子显微镜(SEM)，机的差异被通过减少校正该记录机的差异。此外，在临界尺寸变化sems时间上被周期性地监测由测量上述装置的特性参数和预测上述尺寸的测量结果。根据本发明，机器的实际测量值的差值，它需要相当大的时间和努力，是不必要的。另外，在样品经过时间变化的效果，其中在所述的监控是有问题的变化在时间上的装置，可以被消除。 |
微信公众号