| 光强度分布校正光学系统和使用该相同的光学显微镜 |
| JP2011098138 2011-4-26 发明申请 |
| 2011-10-13 |
| 要解决的问题 : 以提供一种光强度分布校正光学系统的配置，使得所述强度分布发散光从一光源是由要均匀，提高光利用效率，NA中的一个差所述的光源是很容易地吸收，和实现成本降低，并且还提供一种光学显微镜使用所述的光强度分布校正光学系统。溶液 : 所述的光强度分布校正光学系统校正所述入射光的强度分布具有大大不同的发散角度在XY平面方向以一平坦的强度分布。所述的光强度分布校正光学系统包括 : 一个第一透镜组42，它是由至少一个圆柱形透镜具有正折射力的所述入射光在该大的发散角方向和不具有一个在一个方向垂直于该方向折射光焦度; 和一个第二透镜组43，它是由至少一个圆柱形透镜的后面设置第一透镜组42，和具有正折射光焦度所述入射光在所述小的发散角方向和不具有折射光焦度在一方向垂直于所述方向。所述的光强度分布校正光学系统被配置成从一个点发出的光准直所述入射光源41所述的XY平面中具有大大不同的发散角方向，和使所述强度分布的所述入射光通过所述球面像差的平坦所述各个透镜组42和43以发射所述入射光。版权 : (C)2012，inpit |
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