| 可变照度设置的标线检验用显微镜 |
| US13063294 2009-9-18 发明申请 |
| 2011-7-7 |
| 在掩模检查期间，主要是在晶片曝光期间也发生的感兴趣的缺陷。 因此，在抗蚀剂中和在检测器上产生的航空图像必须尽可能相同。 为了实现等效的图像生成，在掩模检查期间，照明和在物体侧的数值孔径被适配到所使用的扫描器。 掩模检查显微镜的另一种形式用于测量网孔，并且也被称为配准工具。 所述常规和远轴照明设置使用照明以优化对比度。 从而提高了配准测量的精度。 本发明涉及一种用于可变设置照明的掩模检查显微镜。 其用于在掩模检查显微镜的场平面中生成布置在物平面中的掩模(145)的结构(150)的图像。 它包括发射投射光的光源(5)，至少一个照明光路(3，87，88)，和用于在照明光路(3，87，88)的光瞳平面(135)中产生投影光的合成强度分布的第一光圈，所述光瞳平面(135)相对于物平面光学共轭。 根据本发明，掩模检查显微镜具有至少一个另外的光圈，用于产生所得到的强度分布。 所述第一光圈和所述至少一个另外的光圈至少部分地在所述光瞳平面(135)的不同位置影响所述投射光的合成强度分布。 |
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