| 具有可变照明掩模检查显微镜姿态 |
| DE102009041405 2009-9-14 发明申请 |
| 2011-3-24 |
| 在掩模检查它是必要的，以识别缺陷，也出现晶片的曝光期间。因此，所述天线产生的图像在所述抗蚀剂和所述检测器上具有要作为尽可能相同。为了达到一个等效图像的生成，掩模检查所述的照明期间和，所述对象上侧，该数值孔径被适配到所述扫描仪使用。本发明涉及一种用于可变地设定所述的照明掩模检查显微镜，它用于产生一个该结构的图像(150)的一掩模版(145)设置在一个场中的一个对象平面的平面所述掩模检查显微镜，它包括一光源(5)，其发射投影光，至少一个照明光束路径(3; 87，88)，和一个光阑用于产生一合成中所投影的光强度分布的光瞳平面(135)所述的照明光束的路径(3，87，88)，其具有相对于所述物体是光学共轭的平面。以本发明，所述膜片是体现在这种方式使所得所投影的光强度分布具有至少一个进一步的强度值之间的最小和最大强度值。 |
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