| 显微镜，特别是到所述总反射荧光的测量，和操作过程用于这种 |
| DE102009037366 2009-8-13 发明申请 |
| 2011-2-17 |
| 目前，具有低光强度相对弱的光源被用于宽场显微镜中，不可避免地，聚焦在所述光瞳平面从而在所述样品中低光强度的结果，由于所输出的所述光源是分布在一个非常大的样品区域，然而，还存在宽领域技术需要非常高的强度，例如，光-激活(pal)定位显微镜，它是本发明的该对象，以允许，有很少的开销，所述的挠性调整所述该样品中的照明光强度。用于这个目的，一种激光(2)是用于一光源，和一个可变透镜(10)被设置在所述因此制造一种可变调整照明光束路径的一束横截面所述的照明光在一个中间图像平面的可能的，其中所述的照明光的发散是相同的用于不同的光束的横截面，在这种方式，该显微镜所述的可视场的尺寸可以灵活地调整。因此，所述样品中所述激光照明光的强度(5)可以在一个宽的范围变化值。 |
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