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用于监控过程显微镜E。G。化学过程的工业应用中，具有照明光学系统朝处理介质，其中照明光学系统和光源被连续地设置在热-导向缸

DE102008058785 2008-11-24 发明申请

2010-5-27

本发明涉及一种用于光学可视化装置和测量显微的程序处理期间在高温度和\/或高druck。模具kameraund所述照明单元被容纳在一个或在分离之前，不允许这些单元周围的热量引导缸高的温度下，其出现在该过程的地方，以使以保护而不会在所述相同的时间一强提取从该过程的热介质。