| 图案尺寸测量方法和使用相同的扫描电子显微镜 |
| WOJP09005695 2009-10-28 发明申请 |
| 2010-5-14 |
| 本发明提供一种技术进行更高度准确的半导体检查通过检测图案的边缘不贡献作为一掩模在一蚀刻步骤和测量一个图案，而不包括这种边缘在所述计算的时间尺寸。由于具有一个突出形状的图案部分是被蚀刻去除在所述的时间，一扫描电子显微镜获取的图像是使得所述突出的边缘不起作用的作为一掩模是以被排除在所述计算的时间图案检查中的尺寸。然后，该图案边缘的形状被计算，所述部分所述突出的边缘被校正，和图案从凹边缘获得的主要尺寸被计算。 |
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