| 用于分划板显微镜检查与可变照明设置 |
| WOEP09006753 2009-9-18 发明申请 |
| 2010-4-1 |
| 在掩模检查晶片的曝光期间也发生感兴趣的，其主要缺陷。因此，所述抗蚀剂中所述天线产生的图像和在所述检测器具有被作为尽可能远相同的。为了实现一个等效的图像的生成，掩模检查所述的照明期间和，所述对象上侧，所述数值孔径是适于使用所述的扫描器。一个进一步形成掩模检查的显微镜的用于测量所述掩模版的和是也称为作为一种注册工具。所述的照明是用于通过所述传统的和离轴照明设置用于优化所述对比度。该注册的测量精度是这样增加。本发明涉及一种用于可变地设定所述的照明掩模检查显微镜。它用于产生一个图像的所述结构(150)的一掩模版(145)设置在一个对象平面一个场中所述掩模检查显微镜的平面。它包括一光源(5)，其发出投射光，至少一个照明光束路径(3，87，88); 和一第一光阑用于产生一合成中所投影的光强度分布的光瞳平面(135)的所述的照明光束路径(3，87，88)，其具有相对于所述物体是光学共轭的平面。根据本发明，所述掩模检查显微镜具有至少一个进一步的隔膜用于产生所得到的强度分布。第一光阑和所述至少一个进一步的隔膜影响所得到的所述投影光的强度分布至少部分地在不同位置的所述光瞳平面(135)。 |
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