目的 : 利用所述的光学显微镜是提供一种光刻系统，其减少了所需要的时间和成本用于所述掩模生产和掩模过程。<\/P>

的结构 : 所述的光学显微镜部(10)所述光致抗蚀剂表面上聚焦的光施加所述顶部所述基板和执行的曝光通过使用所述光源的波长与光致抗蚀剂反应，。所述载物台部(20)被连接到该下部分所述的光学显微镜的部分。衬底被移动，使得所述光源可以被照射在所期望的站点的所述光致抗蚀剂。所述控制器(30)控制所述载物台部的整个系统和光学显微镜的部分。所述的光学显微镜的部分包括所述的光学源部分，所述光源控制部，和光学显微镜，光源控制部包括所述的可变光阑和空白。<\/P>