| 生成的图案使用原子力显微镜纳米构图 |
| KR1020070104745 2007-10-17 发明授权 |
| 2008-12-22 |
| 目的 : 所述的方法制造使用所述原子力显微镜纳米构图是提供所述图案，以提高所述的高度所述纳米氧化结构超过100所述光刻中使用所述原子力显微镜纳米。<\/P> 构成 : 该方法用于制造所述图案使用所述原子力显微镜包括如下。一步骤是用于照射该离子束的质子或所述所述基板上的氩。一步骤是用于执行所述原子力显微镜所述衬底在其上的光刻所述离子束照射和用于形成该氧化结构(d)通过施加该正电压在所述原子力显微镜针尖(E)。。<\/P> kipo2009<\/P> |
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