| 结合光学技术使用原子力显微镜轮廓分析样品的方法和系统 |
| US10934786 2004-9-3 发明授权 |
| 2008-10-7 |
| 提供了一种包括光学子系统和原子力显微镜探针的系统。 光学子系统被配置成生成关于试样表面上的位置的位置信息。 所述系统被配置成基于所述位置信息将所述探针定位在所述位置附近。 一种方法包括产生关于具有光学子系统的试样表面上的位置的位置信息。 所述方法还包括基于所述位置信息将原子力显微镜探针定位在所述位置附近。 另一个系统包括光学子系统，该光学子系统被配置为使用散射测量法测量晶片的覆盖。 该系统还包括原子力显微镜，该原子力显微镜被配置为测量晶片上的特征的特性。 另一种方法包括使用散射测量法测量晶片的覆盖。 该方法还包括使用原子力显微镜测量晶片上的特征的特性。 |
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