| 利用原子力显微镜方法用于形成精细图案的光刻 |
| KR1020070024498 2007-3-13 发明申请 |
| 2008-9-19 |
| 一种用于形成精细图案的方法通过使用AFM(原子力显微镜)光刻是提供以形成各种通过设计一种新的形状的图案形状的探针。一种抗蚀剂薄膜(12)上形成一个一半导体衬底的上表面(10)。一种通过使用AFM光刻形成精细图案是。一种端一探针的AFM的被设计成具有一锥形的形状，方柱的形状，或一个棱锥的形状以形成各种形状的抗蚀剂图案的。一种所述探针的所述端部的直径是控制几个埃到几个十位埃的范围内，以形成抗蚀剂图案和所述的各种形状，以形成各种尺寸的CD(临界尺寸)。 |
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